第二百九十八章 确保有一战之力

沧海扬帆第一卷风起云涌第二百九十八章确保有一战之力“条件你尽管提!”

听到高凡提条件,徐云顿时有了信心,他拍着胸脯说道:

“小食堂的小炒,我请你三顿,怎么样?”

枫林研究所的单身职工很多,有些是没结婚的年轻人,有些则是两地分居的单身,所以平常吃食堂的人很多。

研究所的食堂分为大食堂和小食堂,小食堂承担接待访客的职能,同时还开了一个小炒窗口,可以提供一些高档菜品,供职工们偶尔打个牙祭。

80年代初,到外面饭馆请客吃饭是很罕见的,成了家的人请客一般都是在自己家里,而单身职工要请客,就只能到小食堂买两个小炒了。

徐云是个大学生,到枫林研究所来帮忙,只能拿很少的一点学生补贴,和研究所里那些拿正式工资的职工相比,算是穷人。他声称要在小食堂请高凡吃三顿小炒,算是很有诚意了。

“小炒就算了吧。”高凡摇摇头,随后又笑着说,“徐师兄如果嘴里淡了,改天我请你吃小炒吧。我现在算是辍学在家创业,多少还有点收入,起码比师兄你富裕一些。”

“这个我倒是听说过……”徐云讷讷道。

“对了,徐师兄,我对你们08实验室研究的东西,有点兴趣,你能跟我介绍一下吗?”高凡微笑着说道。

“你是说光致抗蚀剂?”徐云有些纳闷。

咦,咱们不是在谈泡妞的事情吗,你怎么转进到技术问题上去了?

没错,能够进研究所的人,都是技术宅,但技术宅也有春心……,呃,是也需要春天好不好?

你知道我专门跑来跟你聊黄师妹的事情,是鼓起了多大的勇气,你这样岔开话题是很不人道的,知不知道?

可是,心里这样想,徐云还真不好意思直说。以时下的风气,很多大学对于学生谈恋爱都是禁止的,因为这种事情被开除学籍的都不是新鲜事。

徐云给黄春燕写信,也只是谈学习谈生活谈理想,丝毫不敢提及敏感内容。现在让他掐着高凡的脖子让对方言归正传,他做不到啊。

“我们目前搞的东西,没啥特别的,也就是填补国内空白而已。关于技术进展情况,前几次开例会的时候,我们室主任都介绍过了,你不也参加会议了吗?”徐云有些无所谓地答道。

枫林研究所七区都是搞化工技术的,各个实验室之间的协作不少。每周的例会是全区的技术人员都要参加的,在例会上会互相通报技术进展以及遇到的困难,所以徐云觉得,高凡对于自己实验室正在做的东西,应当是有所了解的。

徐云所在的08实验室目前正在研究的是光致抗蚀剂,也就是俗称的光刻胶。高凡从到研究所的第一天就从云中明那里知道了这件事,并且暗暗地存下了一个念头。

中国的集成电路研究起步很早,差不多是美国发明出集成电路技术的同时,中国就盯上了这个方向,并且开始积极追赶。

从60年代至70年代末,全球集成电路技术经历了小规模、中规模、大规模、超大规模等多个技术阶段,中国亦步亦趋,每个阶段都没有错过。

然而,集成电路并不是一项孤立的技术,集成电路的制造严重依赖于整个工业体系的水平,尤其是材料技术和精密加工技术的水平。

在中小规模集成电路阶段,工业水平的影响还不太明显。到了大规模、超大规模集成电路阶段,没有强大的工业基础作为支撑,集成电路的发展就举步维艰了。

在后世,即便是美国这样的工业强国,也无力独立建成一套完整的集成电路工业体系,而是必须依赖整个西方的力量,例如荷兰的光刻机、德国光学镜片以及日本的光刻胶。

在美国扬言要全面封杀中国的半导体产业之时,曾有一些精神太监们洋洋自得地声称:光刻机的制造需要20多个国家的数百家工厂,中国如果要独立研发出光刻机,难度不亚于重建一套人类文明。

不过,到了那个时候,中国一个国家的体量,无论是工业人口数,还是工业增加值,已经达到了太监们口中那20多个国家的总和,也就是说,中国已经以一己之力,建成了一套人类文明。

当然,这就是后话了。

上世纪60至70年代,中国还是一个工业基础薄弱的国家,而且还遭受着东西方两大阵营的联合封锁。别说集成电路这种高科技产业,就连钢铁、化工等基础产业,与国外相比都有两代以上的差距。

在当时,中国虽然已经掌握了大规模集成电路的制造技术,甚至还借助于引进的国外二手设备生产出了超大规模集成电路,但产品质量差、成本高,完全没有市场竞争力。

文献记载,80年代初,国产的某种型号集成电路芯片价格为每片8元人民币,而在美国的同型号芯片价格仅相当于0.24元人民币。

80年代初的中国,百业待举,而国家却非常穷。相比钢铁、化工、电力、交通运输等产业,半导体这种只有富裕国家才能玩得起的产业是排不上议事日程的。

在这一时期,国家的半导体产业发展策略就是引进生产设备,实现部分集成电路的国产化,其中尤其以电视机芯片的国产化最为突出。

不过,对“卡脖子”的恐惧是深深刻在中国人基因之中的,在大批引进设备的同时,中国自己并没有完全放弃对半导体设备和相关材料的研究。

以后世网上炒得沸沸扬扬的光刻机为例:

1985年,机电部45所对标美国的4800dsw研制出了国内第一台分步投影式光刻机。

1990年,中科院光电所研制出ioe1010g直接分步重复投影光刻机,主要技术指标接近美国gca8000型的水平,而gca8000是美国在80年代中期开发出来的。

此后的八五、九五、十五期间,也都有相应的研究成果问世。中国在光刻机研究方面,虽然达不到国际一流水平,但也绝对没有被国外远远地甩开。

光刻机只是全部半导体设备中的一个例子,半导体领域的其他技术情况也是如此。可以这样说,中国时刻都准备着迎接最严峻的挑战,任何时候都要确保自己有一战之力。